Jednostki organizacyjne

USOS

Laboratorium które powstało w 2003 r., wyposażone jest w układ do wytwarzania warstw epitaksjalnych z tellurku kadmowo-rtęciowego (HgCdTe) metodą MOCVD – Metal Organic Chemical Vapor Deposition. Układ oparty jest na systemie AIX-200 firmy AIXTRON – światowego lidera w produkcji tego typu aparatury. Technika MOCVD daje nam możliwość osadzania złożonych wielowarstwowych heterostruktur HgCdTe o niemal dowolnym składzie molowym i profilu domieszkowania, wymaganych dla wysokiej jakości fotonowych detektorów podczerwieni. Laboratorium jest finansowane i użytkowane przez Konsorcjum WAT - VIGO System S.A. (http://www.vigo.com.pl) i mieści się w Ożarowie Mazowieckim.

mocvd

INFO DLA WYKŁADOWCÓW