Jednostki organizacyjne

USOS

Ostatnio dodane pliki

07-12-2017 09:41
06-12-2017 18:15
01-12-2017 13:10
01-12-2017 13:10
27-11-2017 17:55
27-11-2017 17:55
27-11-2017 17:55
27-11-2017 17:55
22-11-2017 05:43
22-11-2017 05:43
22-11-2017 05:43
21-11-2017 08:07
16-11-2017 11:37
09-11-2017 14:07
09-11-2017 14:07
09-11-2017 14:07
06-11-2017 12:16
06-11-2017 12:16
06-11-2017 12:15
06-11-2017 12:15
06-11-2017 12:00
30-10-2017 10:54
30-10-2017 10:54
30-10-2017 10:54
23-10-2017 13:02
23-10-2017 13:02
23-10-2017 13:02
23-10-2017 13:02
23-10-2017 13:02
23-10-2017 13:02

Laboratorium które powstało w 2003 r., wyposażone jest w układ do wytwarzania warstw epitaksjalnych z tellurku kadmowo-rtęciowego (HgCdTe) metodą MOCVD – Metal Organic Chemical Vapor Deposition. Układ oparty jest na systemie AIX-200 firmy AIXTRON – światowego lidera w produkcji tego typu aparatury. Technika MOCVD daje nam możliwość osadzania złożonych wielowarstwowych heterostruktur HgCdTe o niemal dowolnym składzie molowym i profilu domieszkowania, wymaganych dla wysokiej jakości fotonowych detektorów podczerwieni. Laboratorium jest finansowane i użytkowane przez Konsorcjum WAT - VIGO System S.A. (http://www.vigo.com.pl) i mieści się w Ożarowie Mazowieckim.

mocvd

INFO DLA WYKŁADOWCÓW