Jednostki organizacyjne

USOS

Ostatnio dodane pliki

13-10-2017 09:31
13-10-2017 09:31
13-10-2017 09:31
12-10-2017 11:47
12-10-2017 11:47
12-10-2017 11:47
12-10-2017 11:47
12-10-2017 11:47
12-10-2017 10:42
12-10-2017 10:42
11-10-2017 08:56
11-10-2017 08:56
09-10-2017 12:21
06-10-2017 14:35
06-10-2017 13:04
06-10-2017 13:04
06-10-2017 10:28
06-10-2017 10:28
06-10-2017 09:40
06-10-2017 09:40
06-10-2017 09:40
06-10-2017 09:40
05-10-2017 09:50
05-10-2017 09:50
05-10-2017 06:54

Laboratorium które powstało w 2003 r., wyposażone jest w układ do wytwarzania warstw epitaksjalnych z tellurku kadmowo-rtęciowego (HgCdTe) metodą MOCVD – Metal Organic Chemical Vapor Deposition. Układ oparty jest na systemie AIX-200 firmy AIXTRON – światowego lidera w produkcji tego typu aparatury. Technika MOCVD daje nam możliwość osadzania złożonych wielowarstwowych heterostruktur HgCdTe o niemal dowolnym składzie molowym i profilu domieszkowania, wymaganych dla wysokiej jakości fotonowych detektorów podczerwieni. Laboratorium jest finansowane i użytkowane przez Konsorcjum WAT - VIGO System S.A. (http://www.vigo.com.pl) i mieści się w Ożarowie Mazowieckim.

mocvd

INFO DLA WYKŁADOWCÓW