Jednostki organizacyjne

USOS

Ostatnio dodane pliki

20-04-2018 11:02
20-04-2018 11:02
16-04-2018 13:48
16-04-2018 13:48
12-04-2018 18:13
12-04-2018 18:13
12-04-2018 18:13
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
12-04-2018 10:47
11-04-2018 13:15
11-04-2018 13:15
05-04-2018 13:40
05-04-2018 13:40
05-04-2018 13:40
04-04-2018 12:50
28-03-2018 15:30
28-03-2018 15:30
28-03-2018 15:30
28-03-2018 15:30
27-03-2018 11:16
27-03-2018 11:16
22-03-2018 11:12

Laboratorium które powstało w 2003 r., wyposażone jest w układ do wytwarzania warstw epitaksjalnych z tellurku kadmowo-rtęciowego (HgCdTe) metodą MOCVD – Metal Organic Chemical Vapor Deposition. Układ oparty jest na systemie AIX-200 firmy AIXTRON – światowego lidera w produkcji tego typu aparatury. Technika MOCVD daje nam możliwość osadzania złożonych wielowarstwowych heterostruktur HgCdTe o niemal dowolnym składzie molowym i profilu domieszkowania, wymaganych dla wysokiej jakości fotonowych detektorów podczerwieni. Laboratorium jest finansowane i użytkowane przez Konsorcjum WAT - VIGO System S.A. (http://www.vigo.com.pl) i mieści się w Ożarowie Mazowieckim.

mocvd

INFO DLA WYKŁADOWCÓW